スパッタリングターゲット

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半導体デバイス用 Tiターゲット

各種電子部品の高機能化に貢献する薄膜デバイス用スパッタリングターゲットです。
微細で均一な金属組織、およびターゲット表面状態を最適化することで、使用初期からライフエンドまでの低パーティクル化を実現しました。

半導体デバイス用 Tiターゲットの写真

特長

  • 金属組織と表面状態を最適化し、低パーティクル化を実現

不純物含有量 (単位: ppm)

半導体デバイス用 Tiターゲット 不純物含有量
Grade Fe Ni Cr Na K O
5N UP <9 <5 <5 <0.03 <0.05 <200
4N5 UP <20 <20 <20 <0.1 <0.1 <200
4N UP <50 <20 <10 <0.1 <0.1 <650
3N5 UP <200 <20 <10 <0.1 <0.1 <1000

用途例

  • 半導体デバイス用

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光学デバイス用 Nbターゲット

各種電子部品の高機能化に貢献する薄膜デバイス用スパッタリングターゲットです。
微細で均一な金属組織および不純物を大幅に低減したターゲットであり、ディスプレイの反射防止用などに優れた特性をもつ製膜を形成します。

光学デバイス用 Nbターゲットの写真

特長

  • 不純物を大幅に低減し、ディスプレイの反射防止性能に優れている

不純物含有量 (単位: ppm)

光学デバイス用 Nbターゲット 不純物含有量
Grade Fe Ni Cr Na K O
Typical <5 <10 <5 <0.1 <0.1 <64

用途例

  • 反射防止膜
    • プロジェクター用
    • ビデオカメラ用
    • DVDピックアップ用

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硬質薄膜用 CrAlX合金ターゲット

添加元素効果で高温域でも硬度の低下が少ない膜質を実現しました。金型などの部品の長寿命化に最適な硬質膜を形成します。

硬質薄膜用 CrAlX合金ターゲットの写真

特長

  • 高温域でも高硬度特性
    硬質薄膜のビッカース硬度グラフ

用途例

  • 金型用保護膜

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