スパッタリングターゲット
半導体デバイス用 Tiターゲット
各種電子部品の高機能化に貢献する薄膜デバイス用スパッタリングターゲットです。
微細で均一な金属組織にすることにより、使用初期からライフエンドまでの低パーティクル化を実現しました。
特長
- 微細で均一な金属組織と表面処理により、低パーティクル化を実現
不純物含有量 （単位: ppm）
| Grade | Fe | Ni | Cr | Na | K | O |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 5N UP | <9 | <5 | <5 | <0.03 | <0.05 | <200 |
| 4N5 UP | <20 | <20 | <20 | <0.1 | <0.1 | <200 |
| 4N UP | <50 | <20 | <10 | <0.1 | <0.1 | <650 |
| 3N5 UP | <200 | <20 | <10 | <0.1 | <0.1 | <1000 |
用途例
- 半導体デバイス用
光学デバイス用 Nbターゲット
各種電子部品の高機能化に貢献する薄膜デバイス用スパッタリングターゲットです。
微細で均一な金属組織および不純物を大幅に低減したターゲットであり、ディスプレイの反射防止用などに優れた特性をもつ製膜を形成します。
特長
- 不純物を大幅に低減し、ディスプレイの反射防止性能に優れている
不純物含有量 （単位: ppm）
| Grade | Fe | Ni | Cr | Na | K | O |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Typical | <5 | <10 | <5 | <0.1 | <0.1 | <64 |
用途例
- 反射防止膜
- プロジェクター用
- ビデオカメラ用
- DVDピックアップ用
硬質薄膜用 CrAlX合金ターゲット
添加元素効果で高温域でも硬度の低下が少ない膜質を実現しました。金型などの部品の長寿命化に最適な硬質膜を形成します。
特長
- 高温域でも高硬度特性
用途例
- 金型用保護膜
お気軽にご相談ください
関連製品
：このアイコンのリンクは、新しいブラウザウィンドウで開きます。
このページのトップへ