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製品情報

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AlN薄膜メタライズ基板
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概要
窒化アルミニウムで世界最高レベルの高熱伝導度をもつ基板にリフトオフプロセスでTi/Pt/Au薄膜パターンを形成した半導体レーザー用サブマウントをご提供しております。優れた温度安定性が要求される光通信用部品、DVD、CDのピックアップ用基板としてAlN薄膜メタライズ基板を広く使用していただいております。使用条件によって、熱伝導度の異なるAlNセラミックス基板をお選びいただけます。
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特長
- 高熱伝導度をもつため、デバイスの放熱性に優れる
- 高熱伝導度をもつ有害なBeoと同等以上の熱伝導度をもつため、環境調和型製品です

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